不同金属附着力比较（不同金属附着力的测定原理）

目前等离子体加工设备常用的激励频率有三种:激励频率为40kHz的超声波等离子体、激励频率为13.56 MHZ的等离子体加工设备和激励频率为2.45GHz的等离子体加工设备。所有的等离子体处理装置都会产生相同的自偏置。超声波的自偏置在1000伏左右，不同金属附着力的测定原理频率等离子体处理设备的自偏置在250伏左右，微波射频的自偏置很低，只有十几伏，三种等离子体的原理也是不同的。

和物理反应相比较，不同金属附着力比较化学反应的缺点不易克服。并且两种反应机制对表面微观形貌造成的影响有显著不同，物理反应能够使表面在分子级范围内变得更加“粗糙”，从而改变表面的粘接特性。

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  这些离子的活性很高，不同金属附着力比较其能量足以破坏几乎所有的化学键，在任何暴露的表面引起化学反应，不同气体的等离子体具有不同的化学性能，如氧气的等离子体具有很高的氧化性，能氧化光刻胶反应生成气体，从而达到清洗的效果。  腐蚀性气体的等离子体具有很好的各向异性，这样就能满足刻蚀的需要。利用等离子处理时会发出辉光，故称之为辉光放电处理。

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等离子体清洗/蚀刻机等离子体产生装置是将两个电极设置在密封的容器中形成电场，用真空泵达到一定的真空度，随着气体变得越来越稀薄，分子间距和分子或离子的自由输送移动距离越来越长，在电场作用下，它们碰撞形成等离子体，这些离子具有高活性，其能量足以破坏几乎所有化学键，在任何暴露表面引起化学反应。不同气体的等离子体具有不同的化学性质。

等离子体激发频率分为三种：激发频率为40 kHz的等离子体为超声波等离子体，13.56 MHz的等离子体为射频等离子体，2.45 GHz的等离子体为微波等离子体。不同的等离子体产生的自偏压是不同的。超声波等离子的自偏压在0V左右，低温宽带等离子清洗机射频等离子的自偏压在250V左右，微波等离子的自偏压很低，只有几十V。电压和三种等离子体机制是不同的。

(4)真空等离子装置清洗后，切断高频电压，排出气体使污垢蒸发，同时向真空室吹气，使气压升至大气压。比较 在传统的湿法工艺中，真空等离子体装置具有以下八个优点。 (1)真空等离子设备清洗后，清洗后的物体非常干燥，无需干燥即可送入下道工序。 (2)不使用三氯乙烯ODS有害溶剂，真空等离子装置清洗后不产生有害杂物。

等离子体技术是一个新兴的领域，这个领域结合了等离子体物理、等离子体化学和气固界面化学反应，这是一个典型的高科技产业，需要跨越很多领域，包括化工、材料、电机等，因此将极具挑战性，也充满机遇。由于未来半导体和光电材料的快速等离子体。清洗机近20年来在研发和推广应用方面取得了比较成功的经验。

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等离子清洗机的等离子体中粒子内能的变化也会改变粒子的状态，不同金属附着力比较有时还会伴随辐射，甚至在等离子体中产生激发、电离、聚变等新粒子。下表显示了非弹性碰撞的类型。电子与原子的非弹性碰撞将电子的动能高效地转化为原子内能，当能量较大时，可以完成能量的完全转化。在离子和原子的非弹性碰撞中，电子的动能比较高，低能和高能只是能量的一半。

等离子清洗属于一种高精密的干式清洗方式，不同金属附着力的测定原理原理是在真空状态下利用射频源产生的高压交变电场将氧、氩、氢等工艺气体激发成具有高反应活性或高能量的离子，通过化学反应或物理作用对工件表面进行处理，实现分子水平的沾污去除(一般厚度为3~30nm)，提高表面活性。对应不同的污染物，应采用不同的清洗工艺，达到最佳的清洗效果。。