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射频功率的设置主要与清洗时间达到动态平衡，增加射频功率可以适当降低处理时间，但会导致反应仓体内温度略有升，所以有必要考虑清洗时间和射频功率这两个工艺参数。

等离子体清洁器技术广泛应用于微电子封装中，主要用于表面沾污去除和表面蚀刻等，工艺的选择取决于后续工艺对材料表面的要求、材料表面的原始特性、化学成分和表面沾污性质。将等离子体清洗引入微电子封装，可以显著提高封装质量和可塑性。但采用不同的工艺，并对键合特性和引线框架的性能进行了比较的影响有很大差异。

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