发表时间: 2023-02-02 10:34:35
作者: 金徕等离子清洗机
来源: 深圳市金徕技术有限公司
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由于等离子体中的电子、离子和自由基等活性粒子的存在,其本身很容易与固体表面发生反应。等离子体清洗的机理,主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。就反应机理来看,等离子体清洗通常包括以下过程:无机气体被激发为等离子态;气相物质被吸附在固体表面;被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子;产物分子解析形成气相;反应残余物脱离表面。
它的多层界面需要更高的界面粘合强度来防止剥离。剥离现象通常首先发生在晶圆边缘,并在应力作用下短时间内向内扩散。晶片与有机基板之间产生的热失配应力直接控制晶片与基板之间产生的热失配应力。最终的电气故障是由剥离后发生的焊料疲劳裂纹引起的。用于低温等离子清洗的气体是氩气。氧气和 CF4 气体,包括氩气和氧气。在 PBGA 键合和成型技术之前对基板进行等离子清洗可以提高抗剥离性。

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