氧plasma除胶机（氧plasma作用机理）

这只是等离子清洗点胶机的好处之一，氧plasma作用机理那么具体有哪些功能特点呢？我们谈谈吧。等离子清洗点胶机上安装的等离子清洗机可以有效去除肉眼难以看到的污垢，主要包括有机物、油污、粉尘等，除表面清洁外，还能提高处理后材料表面的润湿性，增加材料表面的粗糙度，增加胶水与材料表面的接触面积，去除肉眼看不到的有机物、油污甚至污垢，提高材料表面的润湿性，改善表面粗糙度，使胶水与材料的结合更加牢固。

这些离子等离子体中的正负电荷总量相等，氧plasma除胶机因此近似电中性，故称等离子体。等离子脱胶机对晶圆加工的影响等离子体可分为高温等离子体和低温等离子体两种。目前，低温等离子体被广泛应用于许多生产领域。在等离子胶机（等离子清洗机）的使用中，我们都知道胶的气体是氧气。将待清洗的晶圆放入真空等离子脱胶机的反应系统中。在高频和微波能量的作用下，氧离子、自由氧原子、氧分子和电子混合的等离子体被电离形成辉光柱。

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不同气体的等离子体具有不同的化学性质，氧plasma除胶机如氧等离子体氧化性高，可氧化光刻胶产生气体，从而达到清洗效果；腐蚀气体的等离子体具有良好的各向异性，可以满足刻蚀的需要。等离子体处理会发出辉光，故称辉光放电处理。等离子体清洗的机理主要依靠等离子体中活性粒子的“活化”来去除物体表面的污渍。

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（1）化学反应（化学反应）化学反应中常用的气体有氢气(H2)、氧气(O2)、甲烷(CF4)等，这些气体在等离子体中反应成高活性自由基，方程是这些自由基会进一步与材料表面发生反应。其反应机理主要是利用等离子体中的自由基与材料表面反应。压力较高时，有利于自由基的产生。因此，如果化学反应是主要反应，就需要控制较高的压力来反应。

因此，特别适用于不耐热、不耐溶剂的基材材料。而且，材料的整体、局部或复杂结构可选择性地部分清洁。等离子体清洗的机理是依靠处于“等离子体状态”的物质的“活化”来去除物体表面的污渍。从目前各种清洗方式来看，等离子清洗可能是所有清洗方式中最彻底的剥离式清洗。目前，等离子表面清洗设备在国内的应用比较普遍。

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