pu附着力促进剂（聚脲材料与硅pu附着力）

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无论是O2等离子还是Ar、NH3、N2等离子的粘合强度都高于空白板，pu附着力促进剂增加幅度取决于粘合剂。增加的幅度也与等离子体的工作气体有关。在这些情况下，无论是UF、PF、PUF这三种粘合剂，N2等离子体的改善效果都很高，而这四种气体的改善效果为N2>NH3>Ar>O2。单板处理后的胶合板用N2处理。

这表明气体较少，聚脲材料与硅pu附着力铜支架不太可能反射空气中的氧气真空等离子体。当工艺气体进入时，形成的真空等离子体与铜支架发生反应，激发气体不进入，铜管内的氧气真空等离子体不易发生反应。 2.真空泵等离子加工设备额定功率对清洗效果（效果）的干扰及设备变色动态能量功率和单位功率密度是真空泵等离子加工设备额定功率的相关因素。电源的额定功率越高，真空等离子体的动能越高，对器件表面的冲击力也就越强。

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3、安全性:等离子清洗机采用全自动控制触摸板，操作方便，无需高温，安装调试也方便。通过以上的介绍，我们对等离子体表面清洗设备的具体应用，以及低温等离子体设备灭菌的具体特点都有了一定的了解。如果您对等离子表面清洗设备有更多的疑问，欢迎询问我们。(广东金莱科技有限公司)专业等离子清洗机制造商。我们都知道，医院是一个需要消毒灭菌的地方，当然细菌也有很多，尤其是医疗设备，它的清洁不是马虎是一定要严谨的。

即使如此，随着对产品要求的不断提高，汽车制造工序已经无法达到部标和欧标的要求。因此，在汽车制造过程中，其内外装饰品(如仪表盘、保险杠等)在涂装、植毛、粘接前，用等离子体发生器预处理表面，去除制造残留物和硅残留物，提高表面能量，确保零件涂装、植毛、粘接后的长期稳定性和可靠性。

等离子清洗机设备的清洗技术对工业和现代文明的发展有着很大的影响，尤其是在电子信息产业，尤其是半导体产业和光电子产业。在这个阶段，物理和化学清洗方法大致包括湿法清洗和干法清洗。等离子清洗设备在干洗领域发展迅速，具有很大的优势。等离子清洗设备正逐渐在半导体制造、微电子封装、精密机械等行业得到越来越广泛的应用。湿法清洗使用酸、碱等化学物质较多，清洗后需要产生大量废气和废液。

等离子清洗机产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电场, 用真空泵实现一定的真空度, 随着气体愈来愈稀薄, 分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长, 受电场作用, 它们发生碰撞而形成等离子体, 这些离子的活性很高, 其能量足以破坏几乎所有的化学键, 在任何暴露的表面引起化学反应。

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